清潔度衰減實驗操作流程
一、實驗準備
設(shè)備與材料?
清潔度檢測設(shè)備（含萃取裝置、過濾系統(tǒng)、顯微鏡、天平）、烘箱、干燥器、濾膜（需預(yù)先恒重處理）?。
清洗劑（如去離子水或指定溶劑）、待測樣品（需性能穩(wěn)定）?。
參數(shù)設(shè)定?
確定清洗參數(shù)：清洗壓力、噴射角度、清洗劑用量（如1L/次）?。
二、實驗步驟
樣品預(yù)處理?
將濾膜浸入清洗液后烘干（90±5℃, 30分鐘），冷卻并稱重初始質(zhì)量（G1）?。
樣品表面無明顯污染，需符合檢測前狀態(tài)要求?。
連續(xù)萃取清洗?
首次清洗?：使用設(shè)定參數(shù)對樣品進行清洗，收集濾液并過濾，記錄顆粒數(shù)量或重量?。
重復(fù)清洗?：同一樣品連續(xù)清洗6次，每次均更換新濾膜并記錄數(shù)據(jù)（顆粒數(shù)或重量G2）?。
數(shù)據(jù)記錄與分析?
計算每次清洗的顆粒占比：
單次顆粒數(shù) / 總顆粒數(shù) ≤10% 或 單次重量（G2-G1） / 總重量 ≤10%?。
若第n次數(shù)據(jù)滿足上述條件（通常為第3–4次），判定參數(shù)合理；否則需調(diào)整參數(shù)重新實驗?。
三、驗證與優(yōu)化
參數(shù)驗證?
通過實驗的清洗參數(shù)需重復(fù)驗證3次，確保結(jié)果一致性?。
工藝固化?
符合衰減標準（≤10%）的參數(shù)納入正式清洗工藝，用于后續(xù)生產(chǎn)檢測?。
關(guān)鍵注意事項
濾膜恒重?：前后烘干條件需完全一致（溫度、時間）。
設(shè)備校準?：天平精度需達0.1mg，顯微鏡需定期校驗顆粒識別功能?。
環(huán)境控制?：實驗室溫濕度穩(wěn)定，避免外部污染干擾數(shù)據(jù)?。
流程圖示例
開始
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選擇清洗方法和參數(shù)
↓
準備同一件樣件
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對樣件進行第1次清洗，記錄顆粒數(shù)量
↓
對樣件進行第2次清洗，記錄顆粒數(shù)量
↓
...（重復(fù)清洗和記錄，直到第6次）
↓
計算每次清洗得到的顆粒數(shù)據(jù)與所得顆?？偤偷谋戎?/p>
↓
判斷是否有任意一次的比值小于0.1（或10%，根據(jù)標準不同）
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是 → 清洗方法符合要求，確定清洗參數(shù)
↓
否 → 更改清洗方法和參數(shù)，重復(fù)實驗
↓
結(jié)束
以上流程綜合了ISO16232/VDA19標準的核心要求，通過多輪清洗和嚴格的數(shù)據(jù)分析確保萃取方法的有效性?。
如有更多疑問可以聯(lián)系捷布魯專家團隊：189-6156-0696.